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單組分氣體應(yīng)用
N2；化肥、氨、硝酸等化合物的制造，惰性保護(hù)介質(zhì)，速凍食品，低溫粉碎等的制冷劑、冷卻劑，電子工業(yè)中的外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相沉積，離子注入，等離子干刻、光刻等，還用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點氣、平衡氣。 充入燈泡能防止鎢絲的氧化和減慢鎢絲的揮發(fā)速度，延長燈泡的使用壽命，代替惰性氣體作焊接時的保護(hù)氣。 真空充氮儲糧和水果，博物館里書籍的保存。 液氮給手術(shù)刀降溫，“冷刀”手術(shù)減少出血或不出血，術(shù)后恢復(fù)快。 低溫存儲等。 Xe；用于閃光燈，深度麻醉劑，激光器，焊接，難熔金屬切更多 +
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二氧化碳激光氣體激光切割主要特點
二氧化碳激光氣體產(chǎn)生激光切割的切割縫小，加工件不易變形：通過二氧化碳激光氣體生產(chǎn)的激光光束是一個連續(xù)的、非常小的光點，這些小光束具有很大的熱能量，能夠快速加熱加工件使其汽化蒸發(fā)形成小孔，激光光點隨著設(shè)計的要求進(jìn)行線性移動，加工件形成的小孔進(jìn)而形成切割縫很小的切邊，一般只有0.1~0.5mm。切割時根據(jù)不同的材料一般用氧氣或者氮氣作為激光切割輔助氣體。激光切割質(zhì)量要遠(yuǎn)遠(yuǎn)好過乙炔火焰切割,乙炔火焰切割的切割縫最大可能達(dá)到20mm。 二氧化碳激光氣體產(chǎn)生的激光切割跟加工件無接觸：由于二氧化碳激光更多 +
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氦氣，氮氣，氙氣屬于特種氣體嗎？
電子氣體是指用于半導(dǎo)體及其他電子產(chǎn)品生產(chǎn)的氣體，與傳統(tǒng)的工業(yè)氣體相比，電子氣體特殊，在氣體的純凈度要求極高，所以也被稱為電子特種氣體，廣泛應(yīng)用于集成電路顯示面板、光伏能源、光纖光纜、新能源汽車、環(huán)保醫(yī)療等領(lǐng)域。 國內(nèi)特種氣體于20世紀(jì)80年代隨著國內(nèi)電子行業(yè)的興起而逐步發(fā)展，隨著技術(shù)的逐步突破，國內(nèi)氣體公司在電光源、氣體、激光氣體、消毒氣體等領(lǐng)域發(fā)展迅速，但與國外氣體公司相比，大部分國內(nèi)氣體公司的供應(yīng)產(chǎn)品仍然較為單一。尤其是在集成電路顯示面板、光伏能源、光纖光纜等高更多 +
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41種混合氣的簡單介紹
序號 氣體名稱 混合比 主要用途 1 Ar+CO2+O2 92：5：3 焊接及焊接保護(hù)用氣 2 Ar+H2 91：9 3 N2+H2 91：9 4 Ar+N2 75：25 5 Ar+Kr 72：28 照明用氣 6 He+Ne 93：7 7 N2+O2 80：20 8 Ne+Ar 80：20 9 He+N2+CO2+CO 72：16：8：4 激光用氣（探傷、切割等） 10 He+Ne He 8.3%～20% Ne 余 11 CO2+O2 5：95 治療眩暈的腦血管擴(kuò)張更多 +
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一周翻了5倍的稀有氣體——氖氣
氖氣（Ne），制造芯片的關(guān)鍵性材料，怎么個關(guān)鍵？ 沒有光刻機(jī)，做不出芯片。 沒有光刻氣，光刻機(jī)就是個模型。 氖氣，占光刻氣這種激光氣體混合物的96%以上。 氖氬氟等稀有氣體經(jīng)高壓受激發(fā)后形成等離子體，在這個過程中，由于電子躍遷，會產(chǎn)生固定波長的光線，形成了剔除光刻膠的刀片。 除此之外，還有兩個好兄弟，氪氣（同樣用于光刻制程），氙氣（用于半導(dǎo)體刻蝕制程）。 一周內(nèi)，氪氣漲幅約30%，目前主流價格在38000-42000元/方。氙氣漲幅約40%，主流價格在42萬—45萬/方。更多 +
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六氟化硫應(yīng)用領(lǐng)域
一、 六氟化硫以其良好的絕緣性能和滅弧性能，被廣泛應(yīng)用于電器工業(yè)，如：斷路器、高壓開關(guān)、高壓變壓器、氣封閉組合電 容 器、高壓傳輸線、互感器等。 二、 冷凍工業(yè)作為致冷劑，致冷范圍可在-45℃～0℃之間。電氣工業(yè)利用其很高介電強(qiáng)度和良好的滅電弧性能，用作高壓開關(guān)、大容量變壓器、高壓電纜和氣體的絕緣材料。采礦工業(yè)用作反吸附劑，用于礦井煤塵中置換氧。 三、SF6還因其化學(xué)惰性、無毒 、不燃及無腐蝕性，還被廣泛應(yīng)用于金屬冶煉（如鎂合金熔化爐保護(hù)氣體）、航空航天、醫(yī)療（Ｘ光機(jī)、激光機(jī)更多 +
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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈之電子特種氣體行業(yè)深度研究：四氟甲烷
四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻 璃等材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、 控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極 強(qiáng)，CF4 還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點和發(fā)展趨勢是超純、超 凈和多品種、多規(guī)模，各國為推動本國微電子工業(yè)的發(fā)展，越來越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前 而言，CF4更多 +
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韓國稀有氣體“氖”成功實現(xiàn)國產(chǎn)化！
隨著近年來半導(dǎo)體市場的高速增長，半導(dǎo)體工藝中使用的氖 (Ne)、氙 (Xe) 和氪 (Kr) 等稀有氣體的需求迅速增加。韓國稀有氣體市場預(yù)計將從2020年約1600億韓元增長到2023年約2800億韓元，年均增長20%。然而，韓國目前100%進(jìn)口稀有氣體。 氖氣是空氣中含量僅有0.00182%的一種稀有氣體，是半導(dǎo)體曝光工藝中使用的準(zhǔn)分子激光氣體的原料之一。過去，全部進(jìn)口并依賴外國技術(shù)，由于貿(mào)易爭端導(dǎo)致價格飆升和供應(yīng)短缺，韓國曾試圖將產(chǎn)品本地化。此次建成的裝置每年可生產(chǎn)約22000更多 +
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激光焊接保護(hù)氣體的種類
常用的激光焊接保護(hù)氣體主要有N2、Ar、He，其物化性質(zhì)各有差異，也因此對焊縫的作用效果也各不相同。 1、氮氣N2 N2的電離能適中，比Ar的高，比He的低，在激光作用下電離程度一般，可以較好的減小等離子體云的形成，從而增大激光的有效利用率。氮在一定溫度下可以與鋁合金、碳鋼發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生氮化物，會提高焊縫脆性，微信公眾號:焊接人，韌性降低，對焊縫接頭的力學(xué)性能會產(chǎn)生較大的不利影響，所以不建議使用氮氣對鋁合金和碳鋼焊縫進(jìn)行保護(hù)。 而氮與不銹鋼發(fā)生化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生的氮化物可以提高焊縫接頭的強(qiáng)度，會有利更多 +
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存儲芯片需求增長，2025年電子級稀有氣體用量或增加至850ML
在信息時代的飛速發(fā)展中，海量數(shù)據(jù)的處理不僅對于芯片算力提出越來越高的要求，不斷累積的數(shù)據(jù)也需要更大、更快、延時更低的存儲介質(zhì)。電子工業(yè)中氪氙氣體主要用于3D NAND存儲器高深寬比刻蝕工藝，從而實現(xiàn)多層堆疊結(jié)構(gòu)。預(yù)計2025年全球電子級稀氪氖氙氣體用量將增加至850ML，較2020年增長29%。 激光氣體主要用于電子工業(yè)中激光退火和光刻氣。光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，光刻定義了晶體管尺寸，光刻產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展是光刻機(jī)突破關(guān)鍵。與之配套的光刻膠、光刻氣體、光罩等半導(dǎo)體更多 +
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