四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻 璃等材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、 控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極 強(qiáng)，CF4 還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)是超純、超 凈和多品種、多規(guī)模，各國(guó)為推動(dòng)本國(guó)微電子工業(yè)的發(fā)展，越來(lái)越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前 而言，CF4 以其相對(duì)低廉的價(jià)格長(zhǎng)期占據(jù)著蝕刻氣體的市場(chǎng)，因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿Α?/p>