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電子氣體的管理
在制造集成電路的過(guò)程中，超過(guò)30種不同的工藝氣體被用于蝕刻\沉積\氧化\摻雜，和惰性保護(hù)的應(yīng)用。????氬通常以低溫液體交付，并用于為金屬的濺射沉積提供惰性環(huán)境，因?yàn)榈獨(dú)獾姆磻?yīng)性高而導(dǎo)致形成金屬氮化物?！?/div> 更多 +-
特種氣體在蝕刻中的應(yīng)用
刻蝕分為濕法蝕刻和干法蝕刻。???硅片的蝕刻氣體（特種氣體）主要是氟基氣體，包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。???蝕刻氣體氣體工業(yè)名詞，蝕刻就是把基片上無(wú)光刻膠掩蔽的加工表…更多 +
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高純六氟化硫在研究和生產(chǎn)中的重要作用
目前，SF6廣泛應(yīng)用于電力、航天、化學(xué)、物理、氣象、激光、醫(yī)藥等領(lǐng)域。 高純度SF6在先進(jìn)的研究和生產(chǎn)領(lǐng)域中發(fā)揮著重要的作用，作為一種特殊氣體是必需的。 在軍事領(lǐng)域，被用作魚(yú)雷和潛艇的推進(jìn)劑和清潔劑。在微電子工業(yè)中用于清潔氣體和蝕刻氣體;在光導(dǎo)纖維制造中用作絕緣層摻雜劑。高純度SF6及其氣體混合物在合金氧化過(guò)程中可作為合金保護(hù)氣體溶解;在醫(yī)學(xué)上，SF6被用作安全的超聲波造影劑，特別是肝臟腫瘤的x線檢查。SF6通常是通過(guò)靜脈注射，緩慢的呼吸排除…&hellip更多 +
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六氟化硫氣體的屬性和作用-武漢紐瑞德特種氣體有限公司
六氟化硫(SF6)是一種六氟化硫化合物，其分子式為SF6，其室溫壓力下的密度約為空氣的5倍。六氟化硫是一種鐵電負(fù)極氣體，在20℃時(shí)，其絕緣強(qiáng)度約為空氣的3倍，SOHO容量約為空氣的10倍。由于它具有優(yōu)異的電性能，目前在電氣設(shè)備中得到了廣泛的應(yīng)用。 2、作用六氟化硫(SF6)其良好的絕緣性能和消弧性能，如:斷路器、高壓互感器、氣密封組合電容器、高壓輸電線、互感器等。高純度六氟化硫作為電子蝕刻劑已大量應(yīng)用于微針技術(shù)領(lǐng)域。用于朗東商務(wù)，使用范圍-45℃至0℃。在電氣工業(yè)中，它具有極更多 +
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氙氣在電子芯片制造業(yè)中的應(yīng)用
氙氣在電子芯片制造業(yè)中的應(yīng)用 氙氣的最新用途是用在電子芯片制造業(yè)，也是目前氙需求增長(zhǎng)及對(duì)氙投機(jī)買賣的最重要原因，幾家大型芯片制造商正使 用氙氣等離子蝕刻，主要用于微電子機(jī)械系統(tǒng)（ MEMS ）的制造。MEMS設(shè)備可將微電子和微機(jī)械集成為一個(gè)整體，能 在一塊芯片上制作更復(fù)雜及功效更強(qiáng)的電路。這種技術(shù)從根本上把電腦芯片（處理數(shù)據(jù)）和傳感器（收集數(shù)據(jù)）結(jié)合到 一個(gè)元件上，可以批量生產(chǎn)，這種芯片的潛在用途不可限量，氙氣蝕刻工藝就由一些半導(dǎo)體制造商用于生產(chǎn)這種超級(jí)芯 片.氙氣,高純更多 +
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氙氣用于哪行位置
氙氣用于哪行位置 氙氣在放電時(shí)會(huì)產(chǎn)生藍(lán)色或淡紫色的光芒。使用氙氣燈的照明效果比傳統(tǒng)燈好。例如，頻閃燈，照相閃光燈，用于電影 放映的高強(qiáng)度弧光燈，一些用于深海觀察的燈，殺菌燈，日光浴燈和高壓弧都使用這種氣體。一些汽車前燈使用氙氣。 如果您看到前燈發(fā)出柔和的藍(lán)色光芒，則可能是氙氣制成的。 氙氣還有其他用途。它用于核電站以及填充電視和無(wú)線電管。硅微處理器用二氟化氙蝕刻。氙離子推進(jìn)系統(tǒng)使一些衛(wèi)星 和其他航天器進(jìn)入軌道。據(jù)英國(guó)皇家化學(xué)學(xué)會(huì)稱，氙氣甚至被用于制造一種名為5-氟尿嘧啶的更多 +
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二氟化氙在微機(jī)電系統(tǒng)芯片上的獨(dú)特優(yōu)勢(shì)和特點(diǎn)
氟化氙（XeF2）可用于Si、Mo和Ge的各向同性蝕刻，是蝕刻犧牲層來(lái)“釋放”MEMS（MEMS是微機(jī)電系統(tǒng)的縮寫，中文名為Micro Electro-Mechanical System。MEMS芯片，簡(jiǎn)而言之，利用半導(dǎo)體技術(shù)在硅片上制造電子機(jī)械系統(tǒng)，或者更形象地說(shuō)，創(chuàng)造微米級(jí)和納米級(jí)的機(jī)械系統(tǒng)，可以將外部物理和化學(xué)信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)。）更多 +
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氟化氫HF化學(xué)品安全技術(shù)說(shuō)明書(shū)MSDS
氟化氫HF化學(xué)品安全技術(shù)說(shuō)明書(shū)MSDS 氟化氫,氟化氫氣體,氟化氫標(biāo)準(zhǔn)氣體,氟化氫混合氣體 標(biāo)識(shí)中文名：氟化氫msds英文名：Hydrogen fluride 分子式：HF 分子量：20.01 CAS號(hào)：7664-39-3 RTECS號(hào)：MW7875000 UN編號(hào)：1052 危險(xiǎn)貨物編號(hào)：81015 IMDG規(guī)則頁(yè)碼：8185 理化性質(zhì)外觀與性狀：無(wú)色液體或氣體。 主要用途：用于蝕刻玻璃，以及制氟化合物。 熔點(diǎn)：-83．7沸點(diǎn)：19．5相對(duì)密度(水=1)：1．15更多 +
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三氯化硼B(yǎng)Cl3化學(xué)品安全技術(shù)說(shuō)明書(shū)MSDS
三氯化硼B(yǎng)Cl3化學(xué)品安全技術(shù)說(shuō)明書(shū)MSDS 第一部分 化學(xué)品化學(xué)品中文名稱：三氯化硼msds化學(xué)品俗名或商品名：氯化硼化學(xué)品英文名稱：Boron trichloride,Boron chloride推薦用途：高純硼和有機(jī)硼的制取，摻雜、蝕刻、光纖維的制造、擴(kuò)散。限制用途：無(wú)資料。第二部分 危險(xiǎn)性概述化學(xué)品名稱：三氯化硼 GHS危險(xiǎn)性類別：急性毒性—吸入—1 皮膚腐蝕、刺激—1B更多 +
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二氟化氙在微機(jī)電系統(tǒng)芯片上的獨(dú)特優(yōu)勢(shì)和功能
由于XeF2是干氣相蝕刻，因此在通過(guò)小孔或狹窄空間蝕刻時(shí)不存在與表面張力或氣泡相關(guān)的問(wèn)題。XeF2用于蝕刻直徑小至25nm的通孔。類似地，XEF2避免了通常與濕蝕刻工藝相關(guān)的粘附問(wèn)題，濕蝕刻工藝可能在釋放/干燥后損壞永久器件。更多 +
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