半導(dǎo)體行業(yè)是一種全球性的龐大產(chǎn)業(yè)，每年都在持續(xù)增長(zhǎng)，這就意味著

對(duì)高純度氣體的需求也將隨之增長(zhǎng)。

在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，高純度氣體供應(yīng)的可靠性至關(guān)重要，尤其對(duì)于智

能手機(jī)和自動(dòng)駕駛汽車(chē)等先進(jìn)技術(shù)的發(fā)展來(lái)說(shuō)。

集成電路的生產(chǎn)過(guò)程非常復(fù)雜，需要使用30多種不同的氣體。因此，使

用的氣體范圍廣泛，可以說(shuō)是各行各業(yè)中最廣泛的氣體之一。

氣體是半導(dǎo)體制造的重要組成部分，因?yàn)闅怏w可以產(chǎn)生塑造半導(dǎo)體電氣

特性所需的化學(xué)反應(yīng)。由于制造過(guò)程的復(fù)雜性，每個(gè)階段都需要精確和

準(zhǔn)確的氣體使用，以正確配置半導(dǎo)體。

隨著半導(dǎo)體行業(yè)的迅猛發(fā)展，所采用的工業(yè)氣體也不斷進(jìn)步。使用的一

些核心氣體包括氮?dú)狻⒀鯕?、氬氣和氫氣，我們將深入探討它們?cè)谥圃?/span>

過(guò)程中的作用。

在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，氮?dú)馐且粋€(gè)必不可少的核心氣體，這主要是因?yàn)?/span>

它具備可靠的可靠性和惰性特性。盡管在各個(gè)步驟中都有使用，但氮?dú)?/span>

的主要用途還是在吹掃階段。在這個(gè)階段，使用氮?dú)鈦?lái)清洗每個(gè)通道和

管道網(wǎng)絡(luò)，以排除機(jī)器和工具中的任何氧氣，確保它們不受其他氣體可

能引起的污染的影響。

此外，由于在整個(gè)過(guò)程中大量使用氮?dú)?，大多?shù)半導(dǎo)體工廠都在現(xiàn)場(chǎng)配

備了氮?dú)獍l(fā)生器。更重要的是，隨著高科技智能手機(jī)和其他技術(shù)的生產(chǎn)，

在努力滿(mǎn)足高需求的同時(shí)保持低成本變得勢(shì)在必行。

您可以說(shuō)氮?dú)馐构ぞ?、空間和管道遠(yuǎn)離任何潛在的水分、化學(xué)污染物和

顆粒。它是一種必不可少的氣體，從開(kāi)始到結(jié)束的整個(gè)過(guò)程都在使用，

這也難怪他們?yōu)槭裁匆诂F(xiàn)場(chǎng)安裝發(fā)電機(jī)。

如您所知，氧氣是一種氧化劑，因此它對(duì)于產(chǎn)生沉積反應(yīng)至關(guān)重要。它

用于生長(zhǎng)用于工藝中各種元素的氧化硅層，例如擴(kuò)散掩模。

在進(jìn)行半導(dǎo)體制造時(shí)，必須使用純度極高的氧氣，以確保制程和器件的

生產(chǎn)質(zhì)量和性能不受任何雜質(zhì)的影響。

在腐蝕刻蝕時(shí)，氧氣也被用于清除產(chǎn)生的任何多余廢料材料。還可以將

任何蝕刻圖案永久保存下來(lái)。

最終，氧氣還能夠幫助中和反應(yīng)性氣體，從而可能改變產(chǎn)品的質(zhì)量，這

是通過(guò)氧化反應(yīng)實(shí)現(xiàn)的。因此，就像氮?dú)庖粯?，氧氣也有助于防止任?/span>

污染的發(fā)生。

氬氣主要被用于半導(dǎo)體芯片制造中紫外光刻激光器的沉積和蝕刻過(guò)程，以

便創(chuàng)造出最微小的圖案。

在生產(chǎn)硅晶片的過(guò)程中，我們使用氬氣來(lái)保護(hù)硅晶體在高溫生長(zhǎng)過(guò)程中不

與氧和氮發(fā)生任何可能的反應(yīng)，以確保所需晶片的制造。

因?yàn)闅鍤庖彩且环N非常惰性的氣體，它用于為金屬濺射沉積提供非反應(yīng)性

環(huán)境。有時(shí)氮的反應(yīng)性太強(qiáng)，會(huì)導(dǎo)致金屬氮化物的形成。

出于不斷增長(zhǎng)的需求，半導(dǎo)體制造過(guò)程中預(yù)計(jì)會(huì)出現(xiàn)對(duì)氫的增加使用。尤

其是在光刻過(guò)程中，氫氣被用來(lái)與化學(xué)錫發(fā)生反應(yīng)，生成氫化錫。需要?dú)?/span>

化錫，以免它積聚在昂貴的光學(xué)元件上。

該技術(shù)可以在硅和硅鍺的外延沉積過(guò)程中使用，也可以用于通過(guò)退火工藝

來(lái)制備材料表面。

使用氫氣來(lái)生成新的氧化層，以改變已有的薄膜。這一過(guò)程發(fā)生在高溫高

壓環(huán)境下，因此對(duì)流速度、溫度和壓力的控制至關(guān)重要。

此外，氫氣也被用于摻雜階段以協(xié)助控制分解過(guò)程，這是因?yàn)橛糜谠撨^(guò)程

的氣體具有強(qiáng)烈的毒性。有這么多的東西，以至于要將它們保存在能防止

泄漏的設(shè)備中。

乙硼烷是在摻雜過(guò)程中使用的一種化學(xué)物質(zhì)，但由于其熱不穩(wěn)定性，會(huì)逐

漸發(fā)生分解，因此需要?dú)錃鈦?lái)穩(wěn)定它的性質(zhì)。

半導(dǎo)體廣泛應(yīng)用于日常設(shè)備，例如計(jì)算機(jī)、智能手機(jī)、電視等，同時(shí)也被

用于醫(yī)療設(shè)備、軍事系統(tǒng)以及其他許多先進(jìn)技術(shù)應(yīng)用。

它們是我們?nèi)粘Ｉ钪斜夭豢缮俚囊徊糠?，我們或許沒(méi)有察覺(jué)到它們的存

在，因?yàn)樗鼈兇嬖谟谖覀兠刻焓褂玫脑O(shè)備之中。如果沒(méi)有半導(dǎo)體，我們將

無(wú)法做很多事情，隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，它們變得更可靠、更智能、更

緊湊。

從通訊、交通和娛樂(lè)等方面來(lái)看，這些只是半導(dǎo)體為我們所做的一小部分

貢獻(xiàn)。科技和創(chuàng)新將成為未來(lái)的動(dòng)力，讓我們能夠?qū)崿F(xiàn)前所未有的事情。