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中國工程物理研究院
中國工程物理研究院（China Academy Of Engineering Physics），簡稱“中物院”，是國家科研計劃單列的中國唯一的核武器研制生產(chǎn)單位，是以發(fā)展國防尖端科學(xué)技術(shù)為主的集理論、實驗、設(shè)計、生產(chǎn)為一體的綜合性研究院。中物院的研究領(lǐng)域包括物理學(xué)、力學(xué)與數(shù)學(xué)、化學(xué)與材料、信息科學(xué)與電子工程等方面。 中物院在物理學(xué)、力學(xué)與數(shù)學(xué)、化學(xué)與材料、信息科學(xué)與電子工程等項目研究上需要用到6N超純氣、特種氣體（六氟化硫、四氟化碳、三氯化硼、三氟甲烷、硅烷）、更多 +
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三氟化氮等特種電子氣體高速發(fā)展
近年來，《中國制造2025》、《“十三五”國家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問題的通知》等政策扶持，我國超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。同時，含氟特種電子氣體伴隨這些行業(yè)的高速發(fā)展增長亦十分可觀。 常用的含氟特種電子氣體有六氟化硫(SF6)、六氟化鎢(WF6)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)和八氟丙烷(C3F8)等。 三氟更多 +
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四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業(yè)中重要的蝕刻氣體
蝕刻是電子行業(yè)重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作為新一代環(huán)保電子氣體，電子級C4F6成為集成電路IC芯片等制造時必不可少的刻蝕氣體，其GWP值簡直為0，而且能完結(jié)納米級溝槽的加工，成為電子工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！ 2015年，浙化院特種氣體研發(fā)團(tuán)隊提出自主開發(fā)新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。 今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣更多 +
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揭秘三氟甲烷于高周波電漿系統(tǒng)中的反應(yīng)機(jī)制
很多客戶都在紐瑞德特種氣體購買過甲烷氣體，但是大家聽說過三氟甲烷么？從名字上看來三氟甲烷很像甲烷氣體的“親戚“是不是？其實三氟甲烷也是烷烴類的氣體之一，三氟甲烷，又稱三氟甲，是一種無色、微味，不導(dǎo)電的氣體，是理想的鹵代烷替代物。三氟甲烷主要用作低溫（-100℃）制冷劑，電子工業(yè)等離子體化學(xué)蝕刻劑及氟有機(jī)化合物的原料。紐瑞德特氣小編月月就為大家介紹一下三氟甲烷在高周波電漿系統(tǒng)中的反應(yīng)機(jī)制以便大家更好的了解三氟甲烷這個產(chǎn)品。更多 +
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