近年來，《中國制造2025》、《“十三五”國家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問題的通知》等政策扶持，我國超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。同時，含氟特種電子氣體伴隨這些行業(yè)的高速發(fā)展增長亦十分可觀。
常用的含氟特種電子氣體有
六氟化硫(
sf6)、六氟化鎢(WF6)、四氟化碳(CF4)、
三氟甲烷(CHF3)、三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)和八氟丙烷(C3F8)等。
三氟化氮（NF3）作為含氟特種氣體的一類，是市場容量最大的電子特種氣體產(chǎn)品，其常溫下具有化學(xué)惰性，高溫下則比氧氣更活潑、比氟更穩(wěn)定，且易于處理。
三氟化氮主要用作等離子蝕刻氣體和反應(yīng)腔清洗劑，適用于半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、光纖、光伏電池等制造領(lǐng)域。
和其他含氟電子氣體相比，三氟化氮具有反應(yīng)快、效率高的優(yōu)點，尤其在對氮化硅等含硅材質(zhì)的蝕刻中，具有較高的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑，而且對表面無污染，能夠滿足加工過程需求。
氟化氮的主要生產(chǎn)工藝有化學(xué)法和熔鹽電解法。其中化學(xué)合成法安全性高，但具有設(shè)備復(fù)雜、雜質(zhì)含量多的缺點；電解法更容易得到高純度產(chǎn)品，但存在一定的浪費和污染。
目前，日本與國內(nèi)生產(chǎn)高純?nèi)膹S家大多采用NH4H氟氣熔融鹽電解法，而歐美國家則一般采用直接化合法。
隨著半導(dǎo)體、顯示面板行業(yè)生產(chǎn)及消費重心逐漸向中國大陸轉(zhuǎn)移，加上主要原料均由國內(nèi)供給，兩頭在內(nèi)的產(chǎn)業(yè)鏈格局決定了三氟化氮生產(chǎn)應(yīng)用向國內(nèi)轉(zhuǎn)移是大勢所趨。
我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)和面板產(chǎn)業(yè)維持較高的景氣度，三氟化氮作為面板、半導(dǎo)體生產(chǎn)加工過程中必不可少、且用量最大的特種電子氣體，具有廣闊的市場空間。
根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，2019年全球和中國的三氟化氮需求量分別為3.1和1.1萬噸，分別同比增長10%和40%。
從市場競爭格局來看，長期以來，
三氟化氮的生產(chǎn)和銷售廠家集中在美國、韓國、日本等國外幾家氣體公司。其優(yōu)勢為產(chǎn)能大、品種齊全，劣勢在于原材料均由中國國內(nèi)采購，生產(chǎn)成本和運輸成本比較高。
由于生產(chǎn)NF3氣體的主要原料大部由國內(nèi)供給，且半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)和消費中心向中國大陸轉(zhuǎn)移，決定了NF3未來生產(chǎn)向中國大陸轉(zhuǎn)移的趨勢。隨著國內(nèi)市場需求的增加和國產(chǎn)化率的提升，頭部企業(yè)的市占率有望得到進(jìn)一步提升。
來源：網(wǎng)絡(luò)
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