電子特種氣體（簡稱：電子特氣）是特種氣體的一個(gè)重要分支，是集成電路（IC）

、顯示面板（LCD、OLED）、光伏能源、光纖光纜等電子工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的

關(guān)鍵性原材料，在電子產(chǎn)業(yè)中的作用相當(dāng)于“生長激素”。廣泛應(yīng)用于薄膜、光刻、

刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴(kuò)散等工藝，其質(zhì)量對(duì)電子元器件的性能有重要影響。

氣體的產(chǎn)品種類豐富，電子元器件在其生產(chǎn)過程中對(duì)氣體產(chǎn)品存在多樣化需求。

例如集成電路制造需經(jīng)過硅片制造、氧化、光刻、氣相沉積、蝕刻、離子注入等

工藝環(huán)節(jié)，這個(gè)過程中需要的高純特種氣體和混合氣體的種類超過 50 種，且每

一種氣體應(yīng)用在特定的工藝步驟中。此外，在顯示面板、LED、太陽能電池片等

器件的制造中的不同工藝環(huán)節(jié)均會(huì)用到多種特種氣體。

電子特氣在其生產(chǎn)過程中涉及合成、純化、混合氣配制、充裝、分析檢測、氣

瓶處理等多項(xiàng)工藝技術(shù)，下游客戶對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量要求較高。尤其是極大規(guī)模集成

電路、新型顯示面板等精密化程度非常高的應(yīng)用領(lǐng)域，對(duì)特種氣體的純化、雜

質(zhì)檢測、儲(chǔ)運(yùn)技術(shù)都有著嚴(yán)格的要求。

氣體純度：特種氣體要求超純、超凈。純度每提升一個(gè) N 以及粒子、金屬雜質(zhì)

含量濃度每降低一個(gè)數(shù)量級(jí)都將帶來工藝復(fù)雜度和難度的顯著提升。例如，12

 吋、90nm 制程的集成電路制造技術(shù)要求電子特氣的純度要在 5N~6N 以上，有

害的氣體雜質(zhì)濃度需要控制在 ppb（10-9）；在更為先進(jìn)的28nm 及目前國際一

線的 6nm~10nm 集成電路制程工藝中，電子特氣的純度要求更高，雜質(zhì)濃度要

求甚至達(dá)到 ppt（10-12）級(jí)別。

配比的精度（混合氣）：隨著混合氣中產(chǎn)品組分的增加、配制精度的上升，常

要求氣體供應(yīng)商能夠?qū)Χ喾N ppm（10-6）乃至 ppb（10-9）級(jí)濃度的氣體組分

進(jìn)行精細(xì)操作，其配制過程的難度與復(fù)雜程度也顯著增大。

氣體儲(chǔ)運(yùn)：保證氣體在存儲(chǔ)、運(yùn)輸、使用過程中不會(huì)被二次污染，對(duì)氣瓶內(nèi)部、

內(nèi)壁表面的處理涉及多項(xiàng)工藝，均依賴于長期的行業(yè)探索和研發(fā)；此外，對(duì)于

某些具有高毒性或危險(xiǎn)性的氣體，需要使用負(fù)壓氣瓶儲(chǔ)運(yùn)，以減少危險(xiǎn)氣體泄

露風(fēng)險(xiǎn)。

氣體分析檢測：由于需要檢測的雜質(zhì)含量低至 ppb 級(jí)別，需要使用特殊的氣相

色譜、ICP-AES、ICP-MS 等非常規(guī)分析方法