蝕刻工藝中的高溫室效應(yīng)潛力氣體  

高GWP值的蝕刻氣體主要包括四氟化碳（CF4）、八氟環(huán)丁烷（C8F18）、六氟乙烷（C2F6）

、三氟甲烷（CHF3）等。這些氣體在蝕刻過程中表現(xiàn)出較高的溫室效應(yīng)潛值（GWP值），對

環(huán)境影響較大。

具體蝕刻氣體的GWP值和用途
四氟化碳（CF4）：主要用于蝕刻二氧化硅和氮化硅等介質(zhì)材料，具有較高的GWP值。
八氟環(huán)丁烷（C8F18）：同樣用于蝕刻工藝，GWP值較高
六氟乙烷（C2F6）：在蝕刻過程中使用，GWP值較高。
三氟甲烷（CHF3）：用于蝕刻工藝，GWP值較高。
替代低GWP蝕刻氣體的選擇
為了減少對環(huán)境的影響，可以考慮使用六氟丁二烯（C4F6）等低GWP值的蝕刻氣體。六氟丁

二烯具有高選擇性、高蝕刻進度和高蝕刻效率的特點，并且環(huán)境友好，溫室效應(yīng)潛值(GWP值)

僅為290，大氣壽命1.9天，是當前唯一兼具優(yōu)異蝕刻性能和環(huán)保性能的含氟電子蝕刻氣。