硼的同位素與應(yīng)用領(lǐng)域，你了解嗎？

硼是一種常見(jiàn)的元素，它在自然界中以兩種穩(wěn)定的同位素存在，分別是硼10和硼11。硼

10占硼的自然豐度的約20%，硼11占約80%。硼11和硼10的原子量分別是11.009305和

10.012937，相差約0.996368。這種微小的差異，卻造就了硼11和硼10的不同的物理性

質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)，以及不同的應(yīng)用領(lǐng)域和市場(chǎng)價(jià)值。

三氟化硼 是一種無(wú)色氣體，它是由硼和氟組成的化合物，化學(xué)式為BF3。三氟化硼是一

種重要的特種氣體材料，它可以與不同的同位素組合，形成不同的同位素化合物，例如

三氟化硼10和三氟化硼11。三氟化硼11是一種用于半導(dǎo)體制造的電子特氣，具有高純度、

高穩(wěn)定性、高效率等特點(diǎn)，是一種高端的電子特氣產(chǎn)品。
硼11和三氟化硼11在電子信息產(chǎn)業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用，主要包括以下幾個(gè)方面:
半導(dǎo)體制造：硼11和三氟化硼11是一種高效的硼摻雜劑，可以用于硅離子注入，制造出

高集成、高密度、小體積的芯片，例如存儲(chǔ)器、邏輯器件、微處理器等。砰11和三氟化

硼11的優(yōu)點(diǎn)是可以實(shí)現(xiàn)低溫、低壓、低能量的注入，減少晶體缺陷，提高芯片性能和可

靠性。硼11和三氟化硼11的應(yīng)用工藝主要有低壓注入(LPI)。氣相沉積(CVD)、等離子體

增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)等。
顯示面板制造：硼11和三氟化硼11是一種高效的硼源，可以用于顯示面板的制造，例如

液晶顯示器(LCD)、有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)等。硼11和三氟化硼11的優(yōu)點(diǎn)是可以實(shí)現(xiàn)高

純度、高均勻性、高穩(wěn)定性的硼薄膜沉積，提高顯示效果和節(jié)能性能。硼11和三氟化硼

11的應(yīng)用工藝主要有原子層沉積(ALD)、分子?xùn)|外延(MBE)、磁控濺射(MCS)等。
光纖制造：硼11和三氟化硼11是一種高效的硼源，可以用于光纖預(yù)制件的制造，例如通

信光纖、醫(yī)療光纖、激光光纖等。湖11和三氟化硼11的優(yōu)點(diǎn)是可以實(shí)現(xiàn)高純度、高均勻

件、高穩(wěn)定性的瑚摻雜，改善光纖的折射率、色散、意減等性能。砌11和三氧化硼1的應(yīng)

用工藝主要有改進(jìn)型化學(xué)氣相沉積(MCVD)、等離子體活化化學(xué)氣相沉積(PACVD )、外

氣相軸向沉積(OVD)等。