近年來(lái)，《中國(guó)制造2025》、《“十三五”國(guó)家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問(wèn)題的通知》等政策扶持，我國(guó)超大規(guī)模集成電路、LCD器件、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池等產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速。與此同時(shí)，隨著這些行業(yè)的快速發(fā)展，含氟特殊電子氣體也有了很大的增長(zhǎng)。

常見(jiàn)的含氟特殊電子氣體有六氟化硫（sf6）、六氟化鎢（WF6）、四氟化物（CF4）、三氟甲烷（CHF3）、三氟化氮（NF3）、六氟乙烷（C2F6）和八氟丙烷（C3F8）。

三氟化氮（NF3）是一種含氟特殊氣體，是市場(chǎng)容量最大的電子特殊氣體產(chǎn)品。它在室溫下具有化學(xué)惰性，在高溫下比氧和氟更為活躍和穩(wěn)定，并且易于操作。

三氟化氮主要用作等離子體蝕刻氣體和反應(yīng)室清潔劑，適用于半導(dǎo)體芯片、平板屏幕、玻璃纖維、光伏電池等制造領(lǐng)域。

與其他含氟電子氣體相比，三氟化氮具有反應(yīng)速度快、效率高等優(yōu)點(diǎn)。特別是在蝕刻氮化硅等含硅材料時(shí)，具有較高的蝕刻速度和選擇性。它不會(huì)在蝕刻對(duì)象的表面留下任何殘留物。它也是一種很好的清潔劑，不會(huì)污染表面，可以滿(mǎn)足加工工藝的要求。

氟化氮的主要生產(chǎn)工藝包括化學(xué)工藝和熔鹽電解工藝。其中，化學(xué)合成法是安全的，但存在設(shè)備復(fù)雜、雜質(zhì)含量高的缺點(diǎn)；電解更容易得到高純度的產(chǎn)品，但也有一些浪費(fèi)和污染。

目前，生產(chǎn)高純度三氟化氮的日本和國(guó)內(nèi)制造商大多采用NH4H氟化物氣熔鹽電解工藝，而歐美國(guó)家一般采用直接法。

隨著半導(dǎo)體和顯示屏行業(yè)的生產(chǎn)和消費(fèi)重心逐漸轉(zhuǎn)移到中國(guó)大陸，主要原材料均來(lái)自國(guó)內(nèi)，兩端的產(chǎn)業(yè)鏈格局決定了三氟化氮的生產(chǎn)和應(yīng)用將轉(zhuǎn)移到國(guó)內(nèi)市場(chǎng)。

中國(guó)的半導(dǎo)體和平板工業(yè)保持高度繁榮。三氟化氮作為一種特殊的電子氣體，在板材和半導(dǎo)體的制造和加工中不可或缺，具有廣闊的市場(chǎng)空間。

根據(jù)數(shù)據(jù)，2019年世界和中國(guó)對(duì)三氟化氮的需求將分別增加3.1萬(wàn)噸。11000噸，同比分別增長(zhǎng)10%。40%。從市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局來(lái)看，三氟化氮制造商和銷(xiāo)售商長(zhǎng)期集中在美國(guó)、韓國(guó)、日本等國(guó)外天然氣公司。其優(yōu)點(diǎn)是生產(chǎn)能力大，品種齊全，缺點(diǎn)是原料在中國(guó)采購(gòu)，生產(chǎn)成本和運(yùn)輸成本相對(duì)較高。

由于NF3氣體生產(chǎn)的大部分主要原材料均為國(guó)內(nèi)供應(yīng)，半導(dǎo)體行業(yè)的生產(chǎn)和消費(fèi)中心轉(zhuǎn)移至中國(guó)大陸，未來(lái)NF3生產(chǎn)的趨勢(shì)將決定于中國(guó)大陸。隨著內(nèi)部市場(chǎng)需求和國(guó)產(chǎn)化率的增加，領(lǐng)先公司的市場(chǎng)份額預(yù)計(jì)將繼續(xù)提高。