光纖中氣體的使用
文章出處：責(zé)任編輯：人氣：-發(fā)表時(shí)間：2023-05-24 08:49:44【大
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光纖中氣體的使用
光纖是當(dāng)今信息傳輸中不可替代的傳輸介質(zhì)，全球80%以上的信息通過(guò)光纖傳輸。纖維的主要成分是SiO2。在目前
的光纖制造工藝中，主要原料是SiCl4。當(dāng)然，芯層中摻雜的痕量元素的比例和組成將根據(jù)光纖的種類和類型而變化。
芯層的不同摻雜決定了光纖的性能。根據(jù)國(guó)際電信聯(lián)盟（ITU）的相關(guān)規(guī)定，光纖類型主要分為多模光纖（G1651光
纖，主要用于局域網(wǎng)傳輸）、單模光纖（G1652光纖，主要用于城域網(wǎng)、局域網(wǎng)和干線），色散位移單模光纖
（G1653）、截止波長(zhǎng)單模光纖和非零色散位移單模光纖。512用于氣體應(yīng)用的光纖和通信光纖預(yù)制件的生產(chǎn)工藝主
要由石英材料制成。制造光纖的方法包括諸如制造光纖預(yù)成型件和拉絲光纖的步驟。目前，制造光纖預(yù)成型件最常用
的方法是兩步法：第一步采用蒸汽沉積工藝，如外部蒸汽沉積（OVD）、軸向蒸汽沉積（VAD）、增強(qiáng)化學(xué)蒸汽沉積
（MCVD）、等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）等，生產(chǎn)光纖預(yù)成型體芯（Core2Rod）；第二步包括在通過(guò)蒸汽沉積
工藝獲得芯棒和制造預(yù)制光纖棒的基礎(chǔ)上添加涂層?；瘜W(xué)氣相沉積的主要反應(yīng)是在氫化氧火焰環(huán)境中水解SiCl4和
GeCl4，產(chǎn)生SiO2和GeO2粉塵（SOOT）。SiCl4和GeCl4必須通過(guò)蒸汽或氬氣加熱并輸送到反應(yīng)室中。其他常用的
特殊氣體有CH4、CF4、Cl2、SF6等。
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