噴射式大氣電漿(atmospheric pressure plasma jet, APPJ)近年極受重視，發(fā)展迅速，其可操作于一大氣壓環(huán)境，因此降低對高價真空設備之需求，更重要的是噴射式大氣電漿利用射頻產(chǎn)生非平衡電漿，其中電子溫度與密度極高，其值或數(shù)量級約為2eV與1017m-3左右，但氣體溫度可保持在室溫附近(約300 K)，因此適合應用于生醫(yī)、紡織與軟性電子基板等之表面處理式鍍膜。另一方面，噴射式大氣電漿之結(jié)構(gòu)為線性開槽式，所產(chǎn)生之電漿適合應用于傳輸式處理設備，并易于放大尺寸，具廣泛工業(yè)應用潛力。今天紐瑞德特氣小編月月就為大家介紹一下氦氣電漿的各項參數(shù)。

  本次主要以氦氣進行數(shù)值模擬計算(採用CFDRC模擬計算軟體)，配合所考慮的反應式，給予適當?shù)碾妷号c氣體流速，探討各項電漿參數(shù)的分布情形。大部分的電漿參數(shù)如電子密度、離子密度、或激發(fā)態(tài)原子密度等，在射頻電壓可接受范圍之內(nèi)，均是隨著時間成長到一定數(shù)量而逐漸達穩(wěn)定，而在本次所使用的1.8mm通道寬度、射頻電壓350V與氣體流速10m/s的條件下，激發(fā)態(tài)原子密度較電離子密度高約三個數(shù)量級。另外并改變射頻電壓與氣體流速等操作條件，比較各項電漿參數(shù)的變化，若要提昇通道內(nèi)的電漿密度，則可藉由提高射頻電壓與降低氣體流速來達成。最后將降激發(fā)反應系列所使用之反應速率常數(shù)或碰撞截面資料做比較，發(fā)現(xiàn)不論採取何種條件進行計算，均不影響其模擬結(jié)果。

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