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常規(guī)供氣系統(tǒng)和簡單供氣系統(tǒng)
電子氣體是指用于制造半導體、平板屏幕、發(fā)光二極管、太陽能電池等電子產(chǎn)品的基本原材料。廣泛用于清潔、蝕刻、成膜、摻雜等工藝。電子氣體的主要應(yīng)用包括電子工業(yè)、太陽能電池、移動通信、汽車導航和汽車音頻和視頻系統(tǒng)、航空航天等許多領(lǐng)域。基于投資規(guī)模和產(chǎn)品質(zhì)量的不同實際要求，行業(yè)內(nèi)對電子輸氣系統(tǒng)的要求基本上有三種類型。我們之前與您共享了一個大型供氣系統(tǒng)，然后與您共享一個常規(guī)供氣系統(tǒng)和一個簡單供氣系統(tǒng)。 常規(guī)供氣系統(tǒng) 傳統(tǒng)供氣系統(tǒng)主要用于4-6英寸大型集成電路系統(tǒng)、50MW以下太陽能電池生產(chǎn)線、LED芯片工藝線等更多 +
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半導體中的第二大材料電子特氣是什么？
在芯片制造過程中，不僅需要光刻機、蝕刻機、光刻膠、硅片等核心設(shè)備或材料，還需要工業(yè)中一種稱為電子氣的特殊氣體。更多 +
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六氟化硫有什么作用？
SF6具有良好的電氣絕緣性，是空氣和氮氣的2倍。約五倍。六氟化硫具有良好的滅弧性能，其滅弧能力約為空氣的100倍，其化學性質(zhì)非常穩(wěn)定，因此六氟化硫被廣泛用作絕緣氣體，如六氟化硫繼電器、六氟化硫高壓開關(guān)、六氟化硫互導傳感器、，六氟化硫避雷針等。 在鎂合金和鎂鋁合金的熔煉過程中，通常使用六氟化硫氣體或六氟化硫和氮的混合物作為保護氣體，以防止鎂及其合金被空氣氧化。 在TFT-LCD面板工廠和其他微電子行業(yè)中，六氟化硫通常用作清潔氣體和蝕刻氣體。在光纖的生產(chǎn)過程中，六氟化硫也常用作單層光纖絕緣層的摻雜劑。 應(yīng)用（更多 +
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標準氣體的作用與用途有哪些？
標準氣體的功能和應(yīng)用可總結(jié)如下： 標準石油化工氣體——主要用于在線儀器分析和氣體樣品分析。 環(huán)境監(jiān)測標準氣體——主要用于大氣分析、環(huán)境監(jiān)測等。 電子標準氣體——主要用于電子、半導體和光伏行業(yè)的外延生長、擴散、蝕刻和其他工藝應(yīng)用，以及最終氣體的檢測和分析。 機動車尾氣檢測標準氣體——主要用于機動車尾氣的環(huán)境檢測、檢測和分析。 環(huán)氧乙烷殺菌氣體——主要用于醫(yī)療器械、床上用品、毛巾、床墊、塑料制品、麻醉儀器、光學儀器、糧倉等。 激光混合-主要用于激光切割。 氣體儀器測試標準氣體—更多 +
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六氟化硫行業(yè)產(chǎn)能及應(yīng)用領(lǐng)域，半導體國產(chǎn)化帶動電子級SF6需求
六氟化硫（化學式為SF6）常態(tài)下是一種無色、無味、無毒、無嗅的非燃燒性氣體。作為一種電子氣體，六氟化硫具有良好的化學穩(wěn)定性、耐腐蝕性、電絕緣性以及耐熱性，在半導體、電力設(shè)備、航空航天、半導體制造、金屬加工、醫(yī)療等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。 根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域不同，六氟化硫可分為工業(yè)級六氟化硫以及電子級六氟化硫，近年來，隨著大規(guī)模集成電路技術(shù)提升，市場對電子氣體純度、質(zhì)量等要求越來越高，在此背景下，六氟化硫產(chǎn)業(yè)逐漸由工業(yè)級向電子級方向升級。 電子級六氟化硫可作為氟源、蝕刻氣體等應(yīng)用在半導體、面板顯示器件更多 +
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六氟化硫是什么？車間里如何防范？
六氟化硫可以制作新一代超高壓絕緣介質(zhì)材料。作為良好的氣體絕緣體，被廣泛用于電子、電氣設(shè)備的氣體絕緣。電子級高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑，廣泛應(yīng)用于微電子技術(shù)領(lǐng)域，用作電腦芯片、液晶屏等大型集成電路制造中的等離子刻蝕及清洗劑。在光纖制備中用作生產(chǎn)摻氟玻璃的氟源，在制造低損耗優(yōu)質(zhì)單模光纖中用作隔離層的摻雜劑。還可用作氮準分子激光器的摻加氣體。在氣象、環(huán)境檢測及其他部門用作示蹤劑、標準氣或配制標準混合氣。在高壓開關(guān)中用作滅弧和大容量變壓器絕緣材料。也可用于粒子加速器及避雷器中。利用其化學穩(wěn)定性好和對設(shè)備不腐蝕等特點更多 +
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四氟化碳的應(yīng)用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。 &nb更多 +
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氟化物氣體應(yīng)用
COF2；有機合成中間體，氟化劑。 CHF3；蝕刻，冷凍劑，有機合成。 CH2F2；致冷劑。 CH3F；噴霧劑，C-F鍵的研究。 WF6；氟化劑，鎢載體，化學氣相沉積。 SF6；電子設(shè)備，雷達波導，粒子加速器，變壓器，避雷器的氣 絕緣體，制冷劑，示蹤裝置，醫(yī)療，半導體制造中的蝕刻、化學氣相沉積，標準氣，檢漏氣體，色譜儀的載氣。 NF3；火箭推進劑，氟化劑，電子氣，等離子干刻，摻雜，激光，光導纖維 。 S更多 +
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碳氫化合物氣體應(yīng)用
CH4；燃料，標準氣，校正氣，太陽能電池，非晶硅膜，乙烴、氫氣、合成氨、二硫化碳等生產(chǎn)原料。 C3H8；有機合成，燃料、溶劑，制造乙烯、丙烯等，冷凍劑，標準氣，校正氣，等離子干刻。 C2H6；蝕刻氣，標準氣，校正氣，冶金工業(yè)熱處理，制備乙烯等原料，燃料，冷凍劑。 C2H2；金屬的焊接和切割，有機合成，原子吸收光譜，標準氣、校正氣、合成橡膠、照明。 C2H4；標準氣，校正氣，生產(chǎn)聚乙烯等原料，香蕉水果等成熟劑，冷凍劑，焊接和切割，合成纖維。更多 +
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氫化物氣體應(yīng)用
H2Se；實驗用，摻雜氣，制備硒化物，擴散、離子注入。 H2S；化學分析，金屬的精制，各種工業(yè)試劑、農(nóng)藥、醫(yī)藥品、螢光體、電發(fā)光、半導體光電曝光儀，硫及各種硫化物的制備，有機合成的還原劑、標準氣、校正氣、等離子干刻。 AsH3，擴散、外延生長，離子注入，化合物半導體用氣體，化學氣相沉積。 PH3；縮合催化劑，聚合引發(fā)劑，磷的有機化合物制備，發(fā)生氣體，外延生長、擴散、離子注入，蝕刻，化學氣相沉積，糧倉的殺蟲藥。 NH3；氮肥，銨鹽，硝酸，尿素，丙烯腈，藥品染料，金屬更多 +
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