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半導體、氖氣Ne所需面臨的新的問題
芯片制造商面臨許多新的挑戰(zhàn)。繼2019冠狀病毒疾病導致的供應(yīng)鏈問題之后，該行業(yè)正面臨新的風險。俄羅斯已開始限制向其認為敵對的國家出口。這些是所謂的“稀有”氣體，如氖、氬和氦。 氖在半導體生產(chǎn)中起著重要作用，因為它涉及一種稱為光刻的工藝。這種氣體控制激光在硅上雕刻“痕跡”所產(chǎn)生的光的波長。戰(zhàn)前，俄羅斯在其鋼鐵廠收集了Rohneon作為副產(chǎn)品，然后將其運往烏克蘭進行凈化。在蘇聯(lián)時代，兩國都是稀有氣體的重要生產(chǎn)國。蘇聯(lián)使用稀有氣體建造軍事和空間技術(shù)。然而，更多 +
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高純氬氣的物化性質(zhì)
氬氣 1、別名.英文名 Argon 分子量：39.948 熔點：-189.2℃沸點(101.325kPa)：-185.9℃液體密度(83.78K，68.749kPa)：1416.6kg/m3氣體密度(0℃，101.325kPa)：1.7841kg/m3相對密度(0℃，101.325kPa，空氣=1)：1.380比容(21.1℃，101.325kPa)：0.6037m3/kg臨界溫度：-122.4℃臨界壓力：4864kPa臨界密度：530.7kg/m3熔化熱(-189.37℃，68.7kPa)：29.43更多 +
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氮氣在化學工業(yè)中的應(yīng)用
氮是合成氨最重要的原料。氨合成所需的氮不需要分離和凈化，而是直接來自空氣。在氨合成氣的生產(chǎn)中，空氣中的氧氣和碳氫化合物原料發(fā)生高溫催化反應(yīng)。經(jīng)過轉(zhuǎn)化、脫碳、甲烷化等過程，形成以氫為主，含有少量甲烷、微量一氧化碳和二氧化碳的混合物，空氣中的氮和氬不參與反應(yīng)，直接進入合成氣，得到以氫和氮為主的氨合成氣。在氨合成中，氧氣、一氧化碳和二氧化碳很容易使合成催化劑中毒。甲烷和氬是惰性物質(zhì)，大量積累會降低合成效率。采用液氮洗滌工藝凈化合成氣，可以延長催化劑的使用壽命，提高氨合成效率。 氮也是合成氰胺鈣、氰化鈉和氮化硅的主要更多 +
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氮氣和氬氣在鋼鐵企業(yè)中的應(yīng)用
氮氣主要用于鋼鐵公司的保護和清潔氣體。例如，在熔渣噴射爐保護技術(shù)中，應(yīng)使用氮氣作為噴射氣體。氮氣還可用作噴粉氣、儀表氣、阻風門氣等。氬氣主要用于改善鋼的質(zhì)量。例如，向鋼液中吹入氬氣，以使成分均勻，清潔鋼液，去除鋼液中溶解的氫、氧和氮等雜質(zhì)，并提高鋼的質(zhì)量。煉鐵、煉鋼和軋鋼的大量氮耗為80-120m3/T鋼，大量氬耗為3-4m3/T鋼。 鋼鐵廠中氮的使用 主要用作保護氣體，如軋鋼、鍍鋅、鍍鉻、熱處理（尤其是薄鋼板）和連鑄。氮氣應(yīng)用作保護氣體，其純度應(yīng)超過99999%。 氬的化學惰性用于熔化特殊金屬：更多 +
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氦氣應(yīng)用（一）
（1）火箭、宇宙飛船、液體燃料導彈等在加注燃料之前，必須使用氦清洗增壓液氫罐和管道系統(tǒng)。因為在液氫的低溫環(huán)境中，任何其他惰性氣體，如氮氣或氬氣都會凍結(jié)并與液氫混合堵塞管道和閥門，而氦是唯一液化溫度遠低于氫的惰性物質(zhì)，在這個應(yīng)用上氦是無法替代的。 （2）第四代核反應(yīng)堆中，反應(yīng)堆設(shè)計采用高達790℃的氣體冷媒溫度，在此溫度下，只有氦（4He）具有必需的化學穩(wěn)定性、惰性、高傳熱速率、低動力學壓力損失和低中子有效截面。這一方面，氦氣也是是無法替代的，并且將是未來氦氣需求增長的主要動力。 （3）在航空航天金屬更多 +
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實驗室常見氣體之高純氣體
氣路系統(tǒng)主要由氣源切換系統(tǒng)、管道系統(tǒng)、調(diào)壓系統(tǒng)、用氣點、監(jiān)控及報警系統(tǒng)組成。對于一些易燃易爆氣體，如氫氣、乙炔等，可能在設(shè)計和施工過程中稍有差異，必須加入氣體回火防止器等安全控制裝置。 在實驗室中常見的氣體大概分兩大部分：一部分是實驗室各分析儀器作載氣使用的高純氣體，另一部分是為了實驗室處理和溶解試樣供給的燃氣。下面針對高純氣體做一個簡單介紹。 實驗儀器高純氣體：我們在實驗室中接觸到的高純氣體有：氧氣、氫氣、氬氣、氮氣和乙炔等，這些高純氣體不同的等級代表著不同的純更多 +
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