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: 標(biāo)準(zhǔn)氣體的混勻技術(shù)

均勻性是考察標(biāo)準(zhǔn)氣體性能的一個(gè)重要指標(biāo)。標(biāo)準(zhǔn)氣體的特性應(yīng)該是均勻的即在規(guī)定的范圍內(nèi)其量值保證不變。不論采用哪種方法制備的標(biāo)準(zhǔn)氣體，都需要進(jìn)行混勻處理。標(biāo)準(zhǔn)氣體的混勻方法有：熱處理法、鋼瓶滾動(dòng)法、特殊充填法、自然擴(kuò)散法、其他混勻方法等，幾種混勻操作方法如下： 1、熱處理法：一般將制備好的標(biāo)準(zhǔn)氣體的容器置于40℃以下的溫水浴中加熱，使氣體組分較快的混合均勻。 2、鋼瓶旋轉(zhuǎn)滾動(dòng)法：將鋼瓶水平放在混勻半置的滾動(dòng)軸上，使它繞軸心旋轉(zhuǎn)民。該法混勻所需時(shí)間短，操作簡(jiǎn)單。 &nbs
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: 氫化物氣體應(yīng)用

H2Se；實(shí)驗(yàn)用，摻雜氣，制備硒化物，擴(kuò)散、離子注入。 H2S；化學(xué)分析，金屬的精制，各種工業(yè)試劑、農(nóng)藥、醫(yī)藥品、螢光體、電發(fā)光、半導(dǎo)體光電曝光儀，硫及各種硫化物的制備，有機(jī)合成的還原劑、標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、等離子干刻。 AsH3，擴(kuò)散、外延生長(zhǎng)，離子注入，化合物半導(dǎo)體用氣體，化學(xué)氣相沉積。 PH3；縮合催化劑，聚合引發(fā)劑，磷的有機(jī)化合物制備，發(fā)生氣體，外延生長(zhǎng)、擴(kuò)散、離子注入，蝕刻，化學(xué)氣相沉積，糧倉(cāng)的殺蟲(chóng)藥。 NH3；氮肥，銨鹽，硝酸，尿素，丙烯腈，藥品染料，金屬
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: 單組分氣體應(yīng)用

N2；化肥、氨、硝酸等化合物的制造，惰性保護(hù)介質(zhì)，速凍食品，低溫粉碎等的制冷劑、冷卻劑，電子工業(yè)中的外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相沉積，離子注入，等離子干刻、光刻等，還用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣、平衡氣。充入燈泡能防止鎢絲的氧化和減慢鎢絲的揮發(fā)速度，延長(zhǎng)燈泡的使用壽命，代替惰性氣體作焊接時(shí)的保護(hù)氣。真空充氮儲(chǔ)糧和水果，博物館里書(shū)籍的保存。液氮給手術(shù)刀降溫，“冷刀”手術(shù)減少出血或不出血，術(shù)后恢復(fù)快。低溫存儲(chǔ)等。 Xe；用于閃光燈，深度麻醉劑，激光器，焊接，難熔金屬切
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: 硫化氫的應(yīng)急處理處置方法

硫化氫可以用于工業(yè)上制造高純度硫磺（與二氧化硫反應(yīng)）；含有硫化氫的溫泉對(duì)皮膚病有一定療效。下面小編為您介紹硫化氫的應(yīng)急處理處置方法：一、泄漏應(yīng)急處理迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至上風(fēng)處，并立即進(jìn)行隔離，小泄漏時(shí)隔離150m，大泄漏時(shí)隔離300m，嚴(yán)格限制出入。切斷火源。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿防毒服。從上風(fēng)處進(jìn)入現(xiàn)場(chǎng)。盡可能切斷泄漏源。合理通風(fēng)，加速擴(kuò)散。噴霧狀水稀釋、溶解。構(gòu)筑圍堤或挖坑收容產(chǎn)生的大量廢
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: 氪氣價(jià)格持續(xù)上漲？

　全球疫情不斷擴(kuò)散的情況下，我國(guó)疫情控制相對(duì)穩(wěn)定。據(jù)統(tǒng)計(jì)我國(guó)除第一季度發(fā)展緩慢外，二三四季度隨著疫情控制較好，全面復(fù)工后，國(guó)內(nèi)經(jīng)濟(jì)保持較高速度增長(zhǎng)。稀有氣體市場(chǎng)也日漸回暖，近期國(guó)內(nèi)氪氣市場(chǎng)需求較好，中間商拿貨熱情較高，助推氪氣市場(chǎng)價(jià)格保持上行，近一個(gè)月內(nèi)漲幅超1000元/立方米。短期內(nèi)氪氣資源緊缺狀況或難有改善，春節(jié)之前半導(dǎo)體行業(yè)和節(jié)日氛圍刺激利好下，國(guó)內(nèi)氪氣需求仍將保持向好，價(jià)格或?qū)⒗^續(xù)推漲，漲幅保持在20%-30%。氪氣訂購(gòu)熱線(xiàn)：136-6726-5956 　　供應(yīng)
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: 常見(jiàn)的電子混合氣體組分|紐瑞德特氣

電子工業(yè)用氣體統(tǒng)稱(chēng)為電子氣。在大規(guī)模集成電路（LSI）、超大規(guī)模集成電路（VLSI）、半導(dǎo)體和電子器件生產(chǎn)與加工過(guò)程中，電子氣主要用于氣相外延生長(zhǎng)、化學(xué)氣相淀積、摻雜（雜質(zhì)擴(kuò)散）、蝕刻、離子注入、濺射、退火、系統(tǒng)加壓、潔凈吹掃、吸氣覆蓋、氧化和還原等工藝。其中部分氣體直接作為半導(dǎo)體源，如硅源、硼源、磷源和CVD 源等等。常見(jiàn)的幾種電子混合氣體： Oxygen in Tetrafluoromethane 4% O2/CF4 8% O2/CF4 1
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: 常見(jiàn)的5種電子混合氣體|紐瑞德特氣

氣體在半導(dǎo)體工業(yè)和微電子工業(yè)中扮演著不可或缺的角色，其中除了大家熟知的一些大宗氣體以外，還有一個(gè)重要的分支:電子混合氣體。電子混合氣體廣泛用于大規(guī)模集成電路（L.S.I）超大規(guī)模集成電路（V.L.S.I）和半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中，主要用于氣相外延（生成）、化學(xué)氣相淀積、摻雜（雜質(zhì)擴(kuò)散）、各類(lèi)蝕刻和離子注入等工藝中。根據(jù)不同用途又可以將電子混合氣體分為：晶體生長(zhǎng)氣、熱氧化氣、外延氣、摻雜氣、擴(kuò)散氣、化學(xué)氣相淀積氣、噴射氣、離子注入氣、等離子蝕刻氣、載氣/吹洗氣、光刻氣、退火氣、焊
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: 氣相色譜的載氣怎么選擇？

如何選擇載氣？我們要注意以下問(wèn)題：氫氣由于熱導(dǎo)率最高，當(dāng)用熱導(dǎo)檢測(cè)器時(shí)，通常氫氣和氦氣是最好的載氣。當(dāng)使用FID檢測(cè)器時(shí)，選擇氮?dú)庾鬏d氣或氦氣作載氣，用氫氣作為檢測(cè)用的燃燒氣，但如果用氫氣作載氣，會(huì)造成信號(hào)基線(xiàn)偏高并且燃燒量過(guò)大，檢測(cè)器易積水。另外，由于氫氣分子量小，擴(kuò)散速度快，當(dāng)色譜柱較長(zhǎng)且溫度高時(shí)，組分峰容易擴(kuò)展變寬，造成分離度下降，所以選擇分子量大的氮?dú)夂蜌鍤饩蜁?huì)好得多。載氣系統(tǒng)：載氣系統(tǒng)包括氣源、氣體凈化、氣體流速
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: 電子特氣最全種類(lèi)大全|紐瑞德電子特氣

電子特種氣體是特種氣體的一個(gè)重要分支，是集成電路（IC）、顯示面板（LCD、OLED）、光伏能源、光纖光纜等電子工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的關(guān)鍵性原材料，廣泛應(yīng)用于薄膜、光刻、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴(kuò)散等工藝，其質(zhì)量對(duì)電子元器件的性能有重要影響。氣體的產(chǎn)品種類(lèi)豐富，電子元器件在其生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)氣體產(chǎn)品存在多樣化需求。就集成電路制造過(guò)程中需要的高純特種氣體和混合氣體的種類(lèi)超過(guò) 50 種，且每一種工藝步驟中都會(huì)用到特定的氣體。此外，在顯示面板、LED、太陽(yáng)能電池片等器件的制造中的不同工藝環(huán)節(jié)均
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: 標(biāo)準(zhǔn)氣體必須符合這兩大特性！

標(biāo)準(zhǔn)氣體的均勻性是一項(xiàng)十分重要的特征。雖然各種氣體具有較大的流動(dòng)性和擴(kuò)散能力，由于配制標(biāo)準(zhǔn)氣體時(shí)，幾種組分氣體先后充入高壓鋼瓶?jī)?nèi)，加之各組分氣的分子量之差異，結(jié)果使鋼瓶?jī)?nèi)的氣體組分分布得不均勻，有的還可能產(chǎn)生分層現(xiàn)象。另外，氣體組分與鋼瓶?jī)?nèi)壁之間存在著一個(gè)吸附與脫附平衡過(guò)程，這對(duì)標(biāo)準(zhǔn)氣體組分的均勻性產(chǎn)生不利的影響。正由于上述原因，配制標(biāo)準(zhǔn)氣體尚需采取一定混勻處理手段，以解決充入鋼瓶?jī)?nèi)的各種組分氣均勻性的問(wèn)題。鋼瓶旋轉(zhuǎn)滾動(dòng)法是解決標(biāo)準(zhǔn)氣體混勻的一種快速、簡(jiǎn)易、行之有效的方法。而自然擴(kuò)散法也能使標(biāo)準(zhǔn)校正氣體混合均勻，只
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