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俄限制氖氣后，ASML傳來消息，是找到解決方案了？
俄限制氖氣后，ASML傳來消息，是找到解決方案了？ ASML是一個高度國際化的行業(yè)，要實現(xiàn)其產(chǎn)品的生產(chǎn)目標，必須保證其穩(wěn)定的供應鏈。 然而， ASML并不希望看到的事情發(fā)生了，烏克蘭和俄羅斯都停止了生產(chǎn)，并對霓虹燈進行了限制。ASML隨后宣布，今年將在中國市場招募200人。 ASML在中國招聘更多的雇員，能不能解決這個問題？對于 ASML來說，中國市場的重要性如何？ ASML霓虹燈供應鏈的變化 光刻機是芯片制造的關鍵設備，雖然現(xiàn)在全球的芯片產(chǎn)量還很高，但是由于芯片的缺乏，這些設備都已經(jīng)不能更多 +
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光刻機中你不知道的化學知識
許多化學和化學工程專業(yè)的學生經(jīng)常覺得自己選錯了專業(yè)。事實上，化學和化學工程的知識非常廣泛。請不要沮喪。讓我們談談光刻術對化學原理的依賴性。光刻技術利用光子能量在晶圓表面“雕刻”光刻膠，將掩模圖像傳輸?shù)骄A表面。顧名思義，光的使用是光刻技術的核心，因此可能存在誤解。光刻是一種物理上占主導地位的工藝，但化學原理在光刻工藝中起著至關重要的作用。 1. 光化學反應 光化學反應是光刻工藝的基本原理。所謂光化學反應是利用光子能量作為活化劑產(chǎn)生自由基，然后通過一系列更多 +
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半導體、氖氣Ne所需面臨的新的問題
芯片制造商面臨許多新的挑戰(zhàn)。繼2019冠狀病毒疾病導致的供應鏈問題之后，該行業(yè)正面臨新的風險。俄羅斯已開始限制向其認為敵對的國家出口。這些是所謂的“稀有”氣體，如氖、氬和氦。 氖在半導體生產(chǎn)中起著重要作用，因為它涉及一種稱為光刻的工藝。這種氣體控制激光在硅上雕刻“痕跡”所產(chǎn)生的光的波長。戰(zhàn)前，俄羅斯在其鋼鐵廠收集了Rohneon作為副產(chǎn)品，然后將其運往烏克蘭進行凈化。在蘇聯(lián)時代，兩國都是稀有氣體的重要生產(chǎn)國。蘇聯(lián)使用稀有氣體建造軍事和空間技術。然而，更多 +
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高純氣體在半導體、光纖等行業(yè)的應用？
高純氣體工藝系統(tǒng)目前主要用于泛半導體產(chǎn)業(yè)（集成電路、平板顯示、光伏、LED等等）和光纖、生物制藥及食品飲料行業(yè)。 高純氣體工藝系統(tǒng)的好壞會直接影響先進制造行業(yè)中工藝設備的運行及投產(chǎn)后的成品率。一個優(yōu)秀的高純氣體工藝系統(tǒng)設 企業(yè)如沃飛，能通過控制高純氣體的純度，實現(xiàn)其制程精度要求，保障并提升產(chǎn)品良率。 1、在泛半導體產(chǎn)業(yè)中高純氣體工藝系統(tǒng)的運用 高純度的特種氣體參與泛半導體行業(yè)集成電路制造的核心工藝流程：摻雜、光刻、刻蝕和CVD成膜工藝環(huán)節(jié)。更多 +
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一周翻了5倍的稀有氣體——氖氣
氖氣（Ne），制造芯片的關鍵性材料，怎么個關鍵？ 沒有光刻機，做不出芯片。 沒有光刻氣，光刻機就是個模型。 氖氣，占光刻氣這種激光氣體混合物的96%以上。 氖氬氟等稀有氣體經(jīng)高壓受激發(fā)后形成等離子體，在這個過程中，由于電子躍遷，會產(chǎn)生固定波長的光線，形成了剔除光刻膠的刀片。 除此之外，還有兩個好兄弟，氪氣（同樣用于光刻制程），氙氣（用于半導體刻蝕制程）。 一周內(nèi)，氪氣漲幅約30%，目前主流價格在38000-42000元/方。氙氣漲幅約40%，主流價格在42萬—45萬/方。更多 +
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沖突之下，光刻機巨頭尋求烏克蘭氖氣替代，國產(chǎn)氖氣有望進場補位
俄烏對峙狀況越來越激烈，這兩個國家都是全球氖氣主要生產(chǎn)國，特別是烏克蘭，供應了全球70％的氖氣，這種稀有氣體對半導體光刻環(huán)節(jié)至關重要，難以取代。 所以俄烏沖突一爆發(fā)，光刻機巨頭阿斯麥便緊張兮兮，畢竟他家20％的氖氣供應來自烏克蘭，要是供應中斷，風險太大了，所以阿斯麥正在四處尋找其他氖氣供應來源。 雖說，高純氖氣量產(chǎn)提純的技術門檻很高，能達標的企業(yè)屈指可數(shù)，但由于中國是全球鋼鐵大國，氖氣是鋼鐵行業(yè)的副產(chǎn)品，我國對于這些稀有氣體的純化技術早已實現(xiàn)突破，生產(chǎn)工藝成熟，不是一項&ldqu更多 +
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存儲芯片需求增長，2025年電子級稀有氣體用量或增加至850ML
在信息時代的飛速發(fā)展中，海量數(shù)據(jù)的處理不僅對于芯片算力提出越來越高的要求，不斷累積的數(shù)據(jù)也需要更大、更快、延時更低的存儲介質(zhì)。電子工業(yè)中氪氙氣體主要用于3D NAND存儲器高深寬比刻蝕工藝，從而實現(xiàn)多層堆疊結(jié)構(gòu)。預計2025年全球電子級稀氪氖氙氣體用量將增加至850ML，較2020年增長29%。 激光氣體主要用于電子工業(yè)中激光退火和光刻氣。光刻機是半導體制造的核心設備，光刻定義了晶體管尺寸，光刻產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展是光刻機突破關鍵。與之配套的光刻膠、光刻氣體、光罩等半導體更多 +
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常見的5種電子混合氣體|紐瑞德特氣
氣體在半導體工業(yè)和微電子工業(yè)中扮演著不可或缺的角色，其中除了大家熟知的一些大宗氣體以外，還有一個重要的分支:電子混合氣體。電子混合氣體廣泛用于大規(guī)模集成電路（L.S.I）超大規(guī)模集成電路（V.L.S.I）和半導體器件生產(chǎn)中，主要用于氣相外延（生成）、化學氣相淀積、摻雜（雜質(zhì)擴散）、各類蝕刻和離子注入等工藝中。 根據(jù)不同用途又可以將電子混合氣體分為：晶體生長氣、熱氧化氣、外延氣、摻雜氣、擴散氣、化學氣相淀積氣、噴射氣、離子注入氣、等離子蝕刻氣、載氣/吹洗氣、光刻氣、退火氣、焊更多 +
